首先，當(dāng)氧化膜有灰塵時(shí)，我們應(yīng)該先嘗試擦除它。應(yīng)清除關(guān)閉過(guò)程中產(chǎn)生的封孔粉塵和觸電造成的粉塵。

其次，逐一分析了氧化飛灰的成因。

通常，膜層起塵是由以下幾點(diǎn)引起的：

1.氧化槽溫度過(guò)高；

2.硫酸濃度過(guò)低；

3.鋁離子含量超過(guò)18G/L（鋁離子含量快速增加的原因也是氧化槽溫度過(guò)高，氧化槽未及時(shí)打撈）

氧化槽溫度過(guò)高，需要判斷冷卻機(jī)設(shè)備是否足夠大？如果正常冷卻能力正常，則需要考慮冷水循環(huán)能力的大小以及循環(huán)水泵堵塞引起的溫度是否過(guò)高。把它一個(gè)一個(gè)地打掃干凈。

定期檢測(cè)硫酸含量，并根據(jù)每天從氧化罐中帶出的硫酸消耗量進(jìn)行補(bǔ)償。時(shí)間保持在工藝范圍內(nèi)（為180-220g/L）。

電解質(zhì)溫度對(duì)氧化膜的耐磨性有很大影響。一般來(lái)說(shuō)，如果溫度降低，鋁和鋁合金陽(yáng)極氧化膜的耐磨性將增加，這是由于電解質(zhì)對(duì)膜的溶解速率降低所致。以獲得更高硬度的氧化膜。我們應(yīng)該掌握，在±2℃內(nèi)進(jìn)行硬陽(yáng)極氧化處理。